光刻机是一种半导体制造中重要的工具，可以将芯片上的电路图案投射到硅片上，从而制造出微小的电路元件。但是，光刻机的发明者是谁呢？

1960年代，美国贝尔实验室的工程师Robert N. Noyce和Jack Kilby分别发明了集成电路。这项技术的出现，使得电子产品变得更加小型化、高效化。但是，制造集成电路需要一套高精度的工具，可以将电路图案准确地投射到硅片上。

在1960年代末期，美国的Perkin-Elmer公司开始研发一种新型的光刻机，用于制造高精度的集成电路。这种光刻机采用了激光光源和光学透镜，可以将电路图案投射到硅片上，并且可以达到10微米的精度。

Perkin-Elmer公司的光刻机在1970年代初期开始商业化生产，成为了半导体行业中的重要工具。但是，光刻机的发明并不是由一位具体的人发明，而是众多科学家、工程师和企业的努力和创新的结果。

总之，光刻机的发明是半导体制造技术发展的重要里程碑之一，它的问世使得电子产品的制造变得更加精准和高效。